半導体基盤のための塗料を製造する企業の新研究所である。
周囲の緑地から連続し起伏する屋根の下を実験室とする。屋根は緑化され、その下の実験室の空調負荷を極力小さくしている。
屋根の上に、全く違うシステムの構造体を乗せる。半径が最大で7メートルある逆円錐状のコマのような構造体を平面的に3つ集めることで、お互いにもたれ合うシステムである。半径の違うコマをいくつか繋げてできたテーブルのような構造体を2層積み、上1層にオフィスをつくる。
コマの支点部をピン接合とすることで水平力をキャンセルし、ピン先端部の円形断面をφ230,φ250mmにすることができる。外周に柱の全くない構造体が宙に浮いているように見える。
所在地:新潟市
主用途:研究所
敷地面積:約20000m2
建築面積:約7000m2
延床面積:約9000m2
設計:山本理顕設計工場
構造設計:Arup Japan
設備設計:日永設計
施工:大成建設
竣工予定:2008年10月
diagram
(仮称)ナミックス・テクノコア
ナミックス+山本理顕設計工場
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vol.41:M2F鉄骨建方2
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vol.43:M2F鉄骨建方4(梁)
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2008年05月12日
vol.42:M2F鉄骨建方3(梁)
梁の建方。
ジョイントはまだ仮留めだ。
梁がつながると空間が良く分かる。
予想していたよりも柱間が広い。
のびやかな空間だ。
posted by yoshii at 18:04|
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芳井
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